掃描電子顯微鏡（SEM）產品及廠家
phenom maps 作為一款多模態多維度地圖式圖像自動采集及拼接軟件，可自動獲取大型圖像數據集，并直觀地組合和關聯多種成像、分析模式，從而提供多尺度和多模態的表征數據。
更新時間:2025-11-04
飛納電鏡推出的 chemisem 技術，將 sem 形貌觀察與 eds 成分分析相結合，讓工作流程更加流暢，簡化了許多材料（包括金屬、陶瓷、電池、涂層、水泥和軟物質材料等）的分析流程：通過彩色元素分布圖與 sem 圖像的實時疊加，在成像同時提供高質量的成分定性定量信息。
更新時間:2025-11-04
飛納電鏡能譜一體機 phenom prox 是終的集成化成像分析系統。借助該系統，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時間:2025-11-04
的易于學習的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應用的理想選擇。phenom xl g3 平均成像時間僅為 40 秒，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統可對最大 100 x 100mm 的樣品進行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細節。專利設計的放氣 / 樣品裝載系統可以實現全世界相對較快的放氣 / 裝載速度，并獲得非常少有的比較高的樣品吞吐效率。
更新時間:2025-11-04
飛納高分辨率業版 phenom pro 是飛納電鏡系列中先進的產品，第五代 phenom pro 放大倍數提升為 150,000 倍，分辨率優于 8 nm，30 快速得到表面細節豐富的高質量圖像
更新時間:2025-11-04
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2025-11-03
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2025-11-03
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強、擴展功能豐富等特點。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時具有低真空功能，可以直接觀察不導電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導航和5軸樣品臺可以快速、高效的完成觀察任務。
更新時間:2025-11-03
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2025-11-03
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強、擴展功能豐富等特點。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時具有低真空功能，可以直接觀察不導電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導航和5軸樣品臺可以快速、高效的完成觀察任務。
更新時間:2025-11-03
日立2011年新推出了su9000超高分辨冷場發射掃描電鏡，達到掃描電鏡世界最高二次電子分辨率0.4nm和stem分辨率0.34nm。日立su9000采取了全新改進的真空系統和電子光學系統，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場發射掃描電鏡甚至不需要傳統意義上的flashing操作，可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。 特點： 1. 新型
更新時間:2025-11-03
s-3400n掃描電子顯微鏡 s-3400n具有最新開發的電子光學系統，強大的自動化功能，操作更簡易。 特點: 1. s-3400n具有強大的自動功能，包括自動燈絲飽和、4偏壓、自動槍對中、自動束流設定、 自動合軸自動聚焦和消像散、自動亮度對比度等。 2. 在3kv低加速電壓時
更新時間:2025-11-03
s-3700n 多功能分析型可變壓掃描電鏡 研究超大，超重，超高樣品的分析型掃描電鏡 ● 最大可載樣品直徑達300mm ●最大觀察區域直徑達203mm ● 在觀察110mm高樣品時可進行能譜分析 ● 樣品室設置多種接口，可安裝eds、wds、ebsd和cl等多種分析用附件 ● 5軸優中心馬達臺可以傾
更新時間:2025-11-03
su3900/su3800 se系列作為fe-sem產品，配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統sem產品受安裝樣品尺寸與重量的限制，通過簡單的操作即可實現數據采集。可用于鋼鐵等工業材料，汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。
更新時間:2025-11-03
日立高新推出的掃描電鏡su3800/su3900兼具操作性和擴展性，結合眾多的自動化功能，可高效發揮其高性能。su3900標配多功能超大樣品倉，可應對大型樣品的觀察。
更新時間:2025-11-02
臺式掃描電子顯微鏡(sem)全新升。我們以“更高畫質、更易于使用、更易于觀察”為理念，開發出tm4000系列。在此基礎上，我們又推出功能更為多樣的tm4000ⅱ系列。為您提供全新的觀察和分析應用。
更新時間:2025-11-02
zem15臺式掃描電子顯微鏡采用自主研發的鎢燈絲電子槍,加速電壓在1-15kv范圍內連續可調,可同時搭配二次電子探測器,散射電子探測器,zem15臺式掃描電子顯微鏡秉承操作便捷、快速成像、性能穩定的設計目標，澤攸科技自主研發了鎢燈絲zem15臺式掃描電子顯微鏡。zem15臺式掃描電鏡速度快，信號采集帶寬10m，可以在視頻模式下流暢實時的顯示樣品。
更新時間:2025-11-02
zem18臺式掃描電鏡信號采集帶寬高達10m，掃描速度快，視頻模式下實時觀察樣品，無重影、拖影，不錯過每一個細節。兼容澤攸科技多種原位功能樣品臺（拉伸臺、加熱臺、tec冷臺等原位測試系統）
更新時間:2025-11-02
zem20臺式掃描電微鏡操作簡便，僅需鼠標即可完成所有操作，一體式聚光鏡，無需手動調節光闌。信號采集帶寬高達10m，掃描速度快，視頻模式下實時觀察樣品。豐富的原位拓展功能，可兼容自研原位電鏡附件（拉伸樣品臺、加熱臺、tec冷臺等）。
更新時間:2025-11-02
zem15原位拉伸-掃描電鏡 采用自主研發的鎢燈絲電子槍，加速電壓在1-15kv范圍內連續可調，搭配二次電子探測器、背散射電子探測器、1000n原位拉伸樣品臺，實現掃描電鏡內的原位拉伸/壓縮/彎曲實驗。
更新時間:2025-11-02
蔡司 evo系列掃描電子顯微鏡evo系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗結合在一起， 同時能夠吸引經驗豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學， 材料科學， 或例行的工業質量保證和失效分析域，憑借廣泛的可選配置， evo 都可以根據您的要求量身定制。
更新時間:2025-11-02
蔡司 sigma系列場發射掃描電子顯微鏡：用于高品質成像與高分析的場發射掃描電子顯微鏡將高的分析性能與場發射掃描技術相結合，利用成熟的 gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。sigma 300 性價比高。s
更新時間:2025-11-02
picofemto透射電鏡原位mems加熱/電學測量系統，透射電子顯微鏡是提供在較高時間分辨率下得到原子空間分辨率的實驗手段。
更新時間:2025-11-02
sigma 300 性價比高。sigma 500 裝配有一流的背散射幾何探測器，可快速方便地實現基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。
更新時間:2025-11-02
sigma 300 性價比高。sigma 500 裝配有一流的背散射幾何探測器，可快速方便地實現基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。
更新時間:2025-11-02
evo系列電鏡是高性能、功能強大的高分辨應用型掃描電子顯微鏡。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術的物鏡設計，提供高低真空成像功能，可對各種材料表面作分析，并且具有業界先的x射線分析技術。
更新時間:2025-11-02
蔡司電腦斷層掃描測量機-多探頭測量機設備;工業計算機斷層掃描（ct）為您提供了quanxin的洞見，讓您可以快速采集所有內部結構的體積。蔡司是快速ct的先驅，并且能夠在生產周期中對組件進行完整的以體積為基礎的檢查。
更新時間:2025-10-28
德neaspec真空太赫茲波段近場光學顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設計優勢，采用專利保護的雙光路設計，完全可以實現真空環境下太赫茲波段應用的樣品測量。hv-thz-neasnom在實現30nm高空間分辨率的同時，由于采用0.1-3thz波段的時域太赫茲光源（thz-tds），也可以實現近場太赫茲成像和圖譜的同時測量。
更新時間:2025-10-27
德國ksi i-wafer型全自動晶圓超聲波缺陷檢測系統，在ksi i-wafer的探測下，晶圓中的孔隙、分層或者雜質都能被發現。尺寸在450mm的多種晶圓也能進行檢測
更新時間:2025-10-27
ksi i-ingot型全自動晶錠分析檢測系統,適用于對晶錠的無損檢測，有了它，晶錠內部的裂縫或雜質就能得到快速檢測，晶錠的尺寸可達450mm，檢測時間短，也不需要做其它設定。
更新時間:2025-10-27
德國zeiss蔡司聚焦離子束掃描電鏡fib/sem crossbeam 350，crossbeam 550
更新時間:2025-10-27
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it200 intouchscope ，是一款更簡潔、更易于使用且性價比高的掃描電子顯微鏡。使用初學者易懂的樣品交換導航，可以輕松地從樣品臺搜索視野并開始觀察sem圖像。zeromag能像光鏡一樣直觀地搜索視野，live analysis*2可以不用特意分析就能實時獲取元素分析結果，smile viewtm lab能綜合編輯觀察和分析報告等。
更新時間:2025-10-27
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr，采用新開發的高亮度電子槍和透鏡系統，可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率；從設定視野到生成報告，利用完全集成的軟件大大地提高了作業速度。
更新時間:2025-10-27
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時間長，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時間:2025-10-27
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統制備工具快速、簡單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質量也好，對不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時間:2025-10-27
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現了功能的多樣化。根據需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2025-10-27
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現了功能的多樣化。根據需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2025-10-27
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續時間長、液氮消耗少的構造設計。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機構，在隔離空氣的環境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時間:2025-10-27
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機，實現了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費米邊處al-l基準)的高能量分辨率進行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時間:2025-10-27
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強、使用方便的能譜儀x射線探測器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環境。
更新時間:2025-10-27
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統 jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結構。
更新時間:2025-10-27
日本jeol 雙束加工觀察系統 jib-4700f，該設備的sem鏡筒中采用了超級混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測器系統，在1kv低加速電壓下,實現了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進行高分辨率觀察和高速分析。
更新時間:2025-10-27
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