光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家
1.2*1.5米不銹鋼小地磅 10噸防水電子平臺(tái)秤?想買質(zhì)量好的地磅就買上海漢衡的，為什么要選擇上海漢衡呢？因?yàn)槲覀儫o(wú)論是從工藝還是材質(zhì)方面都優(yōu)于其他廠家，凡是購(gòu)買我司地磅的客戶，我們的技術(shù)員會(huì)免費(fèi)安
更新時(shí)間:2025-11-05
食品廠3噸不銹鋼電子地磅 1*1米防水平臺(tái)秤?食品廠用不銹鋼地磅哪家好？為您推薦上海漢衡！我司不銹鋼地磅有單層、雙層、移動(dòng)、帶斜坡多種類型可選，您可以根據(jù)自己的實(shí)際需求來選擇購(gòu)買何種類型的不銹鋼地磅，
更新時(shí)間:2025-11-05
5噸帶斜坡電子地磅 1米乘1米超低平臺(tái)秤?產(chǎn)品簡(jiǎn)介：地磅秤主要由秤體一件，傳感器四只，接線盒一只，通訊電纜五米，稱重儀表一只組成，這是小地磅的標(biāo)準(zhǔn)配置，當(dāng)然還有選配件，比如說地磅引坡，儀表架，連接電腦
更新時(shí)間:2025-11-05
3噸帶打印平臺(tái)秤 3t帶rs232接口電子磅秤?技術(shù)參數(shù)：準(zhǔn) 確 度：符合jjg539-97中三級(jí)要求 使用電源：ac187～242v；49～
更新時(shí)間:2025-11-05
gb8050led防爆燈30w-gb8050led防爆平臺(tái)燈50w適用于化工廠房、倉(cāng)庫(kù)、鍋爐房、儲(chǔ)存間、罐區(qū)、鋼廠等車間或廠房作固定照明
更新時(shí)間:2025-11-04
目前主流的光學(xué)缺陷檢測(cè)技術(shù)主要依賴于獲取物體表面的二維信息。然而，在諸多實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景中，例如民用電子產(chǎn)品對(duì)液晶屏內(nèi)部缺陷鏡頭組內(nèi)部缺陷的檢測(cè)，以及對(duì)藥物涂層厚度的測(cè)量等，都對(duì)現(xiàn)有技術(shù)提出了更高的要求，迫切需要具備三維成像乃至層析成像的能力。這意味著未來的檢測(cè)技術(shù)必須能夠穿透材料表層，深入探測(cè)其內(nèi)部結(jié)構(gòu)和分層信息，以實(shí)現(xiàn)更、更的缺陷識(shí)別與分析。
更新時(shí)間:2025-11-03
產(chǎn)品涵蓋了光學(xué)教學(xué)中所有的知識(shí)點(diǎn)。通過選擇不同的模塊配置來完成光學(xué)基本定律、各種光學(xué)元件的成像特性等各種實(shí)驗(yàn)；
更新時(shí)間:2025-11-02
微光綜合測(cè)試儀是種精密的光學(xué)檢測(cè)設(shè)備。適用于各種視場(chǎng)和潛望高度的微光夜視儀，該儀器可以完成對(duì)各種微光夜視儀器的大部或全部光學(xué)性能的測(cè)試。
更新時(shí)間:2025-11-02
光具座是種通用性強(qiáng)，用途廣泛的光學(xué)測(cè)試儀器，它主要應(yīng)用于照相物鏡系統(tǒng)、望遠(yuǎn)系統(tǒng)及各類光學(xué)零件等光學(xué)幾何參數(shù)的測(cè)量及其成像質(zhì)量的評(píng)定，還可以應(yīng)用于對(duì)棱鏡的角度進(jìn)行測(cè)量。儀器帶有多種附件，適用于光學(xué)零件及光學(xué)儀器生產(chǎn)過程的質(zhì)量檢驗(yàn)及科研教學(xué)中使用。
更新時(shí)間:2025-11-02
產(chǎn)品特點(diǎn)：1.臺(tái)面材料采用健康型天然大理石平臺(tái)代替原有的鋼結(jié)構(gòu)平臺(tái)，其明顯優(yōu)點(diǎn)是平面度好、質(zhì)量大、穩(wěn)定性好、耐腐蝕性強(qiáng)2.內(nèi)置精密空氣彈簧隔振系統(tǒng)，具備優(yōu)異的隔振性能，自動(dòng)調(diào)節(jié)水平功能3.該產(chǎn)品適用于平面度要求高的實(shí)驗(yàn)
更新時(shí)間:2025-11-02
內(nèi)部蜂窩狀芯板采用的是不銹鋼、鋁板，鍍鋅板等防腐材料，內(nèi)芯密度為250kg/m3；采用國(guó)內(nèi)最新的粘接工藝，顛覆了傳統(tǒng)的焊接工藝，無(wú)焊接應(yīng)力；質(zhì)量輕，強(qiáng)度高，穩(wěn)定性好。
更新時(shí)間:2025-11-02
采用半膜片式空氣彈簧，隔振性能好，固有頻率通常小于1.5hz~3hz,性價(jià)比非常高的科研級(jí)氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)
更新時(shí)間:2025-11-02
光學(xué)平臺(tái)廣泛應(yīng)用于光學(xué)，電子，精密機(jī)械制造，冶金，航天，航空，航海，精密化工和無(wú)損檢測(cè)等領(lǐng)域，以及其他機(jī)械行業(yè)的精密試驗(yàn)儀器，設(shè)備振動(dòng)隔離的關(guān)鍵裝置中。
更新時(shí)間:2025-11-02
本公司制造的精密光學(xué)平臺(tái)，組合精密橡膠阻尼隔震墊,和水平調(diào)節(jié)軸承，具有較好隔振效果。適合于現(xiàn)代光學(xué)、物理力學(xué)、激光電子、光通訊試驗(yàn)及儀器搭載等領(lǐng)域應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-11-02
光學(xué)透鏡采用磁吸式，可以吸附在鐵板上，中間圓盤可以通過后面的旋鈕360度旋轉(zhuǎn)，五線光源采用5個(gè)開關(guān)控制，線條可任意使用。尺寸：35*12*30cm
更新時(shí)間:2025-11-02
:led（light emitting diode），半導(dǎo)體發(fā)光二極管，是一種固態(tài)的半導(dǎo)體器件，它可以直接把電轉(zhuǎn)化為光，以其低功耗，高效率，高穩(wěn)定型等特點(diǎn)在照明、光通信等領(lǐng)域逐步替代傳統(tǒng)光源。對(duì)led的各項(xiàng)參數(shù)的理解與測(cè)試方式的掌握是開發(fā)應(yīng)用此類器件的基礎(chǔ)。采用新光電器件及現(xiàn)在工業(yè)廣泛應(yīng)用的測(cè)試方法開發(fā)的此套教學(xué)實(shí)驗(yàn)產(chǎn)品適用于光電專業(yè)本科生基礎(chǔ)光電實(shí)驗(yàn)及高職院校學(xué)生實(shí)訓(xùn)課程。
更新時(shí)間:2025-10-29
本實(shí)驗(yàn)裝置是基于國(guó)家大學(xué)生創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目和競(jìng)賽項(xiàng)目的基礎(chǔ)上改進(jìn)完善提高后定型的。是結(jié)合了智能家居、智能樓宇的設(shè)計(jì)理念，融合光電技術(shù)、物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)，嵌入式技術(shù)等等為一體的綜合性設(shè)計(jì)開發(fā)平臺(tái)，該裝置設(shè)計(jì)理念先進(jìn)，科技含量高，綜合性強(qiáng)，屬于多學(xué)科交叉的實(shí)驗(yàn)儀器，實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)平臺(tái)的各個(gè)部分，既有與光電、傳感器等的原理密切相關(guān)的基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)，又有利用無(wú)線組網(wǎng)傳感、手機(jī)遠(yuǎn)程
更新時(shí)間:2025-10-29
lite （for toxirae 3）自動(dòng)標(biāo)定平臺(tái)autorae 自動(dòng)標(biāo)定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測(cè)儀的自動(dòng)標(biāo)定、自動(dòng)回讀測(cè)試和自動(dòng)充電。支持多種型號(hào)便攜表，無(wú)需連接計(jì)算機(jī)，操作簡(jiǎn)單。 主要特點(diǎn)• 自動(dòng)標(biāo)定• 自動(dòng)回讀測(cè)試• 自動(dòng)充電̶
更新時(shí)間:2025-10-29
自動(dòng)標(biāo)定平臺(tái)品 說 明 autorae 自動(dòng)標(biāo)定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測(cè)儀的自動(dòng)標(biāo)定、自動(dòng)回讀測(cè)試和自動(dòng)充電。支持多種型號(hào)便攜表，無(wú)需連接計(jì)算機(jī)，操作簡(jiǎn)單。 主要特點(diǎn)• 自動(dòng)標(biāo)定• 自動(dòng)回讀測(cè)試• 自動(dòng)充電• 簡(jiǎn)單的按鍵操作• 無(wú)需連接計(jì)算機(jī)• 標(biāo)定和測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)直接打印
更新時(shí)間:2025-10-29
picosun™ r-200標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)，picosun™ r系列設(shè)備提供高質(zhì)量ald薄膜的沉積技術(shù)，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)極佳的均勻性，包括最具挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。 我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級(jí)的，易更換的前驅(qū)源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3d樣品和各種納米特性的樣品上生長(zhǎng)顆粒度最小的薄膜層。
更新時(shí)間:2025-10-27
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
更新時(shí)間:2025-10-27
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
更新時(shí)間:2025-10-27
plasmapro 80 icpcvd 牛津icp等離子沉積機(jī)，是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計(jì)和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高性能工藝。
更新時(shí)間:2025-10-27
牛津oxford system 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備,該設(shè)備是一個(gè)靈活和功能強(qiáng)大的等離子體刻蝕和淀積工藝設(shè)備,具有工藝靈活性，適用于化合物半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)和微流體技術(shù).
更新時(shí)間:2025-10-27
plasmapro 80 icp 英國(guó)牛津oxford 等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質(zhì)量。直開式設(shè)計(jì)允許快速的進(jìn)行晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計(jì)和少量生產(chǎn)的理想選擇。 該設(shè)備通過優(yōu)化了的電冷卻技術(shù)和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結(jié)果。
更新時(shí)間:2025-10-27
牛津opal開放式樣品載入ald設(shè)備，緊湊型開放式樣品載入原子層沉積（ald）系統(tǒng)，opal提供了業(yè)的熱ald設(shè)備，可以簡(jiǎn)單明了的升使用等離子體，使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和熱ald。
更新時(shí)間:2025-10-27
已獲得利的高速襯底架（高達(dá)1000rpm）設(shè)計(jì)，并配備了白光光學(xué)監(jiān)視器（wlom）——更為準(zhǔn)確的實(shí)時(shí)光學(xué)薄膜控制
更新時(shí)間:2025-10-27
plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)，旨在提供深硅蝕刻（dsie）域的全方位的靈活性以滿足微電子機(jī)械系統(tǒng)（mems）、 先進(jìn)封裝以及納米技術(shù)市場(chǎng)的各種工藝要求。考慮到研究和生產(chǎn)的市場(chǎng)發(fā)展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。
更新時(shí)間:2025-10-27
plasmapro 100 ale 牛津原子層刻蝕機(jī)，市場(chǎng)應(yīng)用廣，包括但不限于： mems和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術(shù)。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發(fā)，通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。
更新時(shí)間:2025-10-27
英國(guó)hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)，是門設(shè)計(jì)用于手套箱集成使用的鍍膜設(shè)備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應(yīng)用要求。該系統(tǒng)配了一個(gè)特殊結(jié)構(gòu)的真空腔室，可直接與市場(chǎng)上大多數(shù)手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動(dòng)開關(guān)，嵌入手套箱內(nèi)，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關(guān)，能在不影響手套箱內(nèi)氣氛的情況下輕松維護(hù)腔室內(nèi)工藝組件。
更新時(shí)間:2025-10-27
英國(guó)hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學(xué)家的多功能鍍膜設(shè)備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設(shè)備，設(shè)計(jì)用于滿足科研工作者和電子顯微學(xué)家的需求。auto306可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標(biāo)準(zhǔn)化工藝附件，提供一系列實(shí)驗(yàn)技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實(shí)驗(yàn)室的需要。
更新時(shí)間:2025-10-27
tf500/tf600 適合先進(jìn)研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)，系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個(gè)型號(hào)的系統(tǒng)都可以安裝多個(gè)鍍膜源，也都支持離子束處理選項(xiàng)。有一系列預(yù)進(jìn)樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。
更新時(shí)間:2025-10-27
ion 100wb-40q 德國(guó) pva tepla 等離子去膠機(jī)，最新推出的具有高性價(jià)比的真空等離子去膠設(shè)備，配備了一個(gè)圓筒石英腔，特別適用于半導(dǎo)體、led、mems等領(lǐng)域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應(yīng)用的批次處理。
更新時(shí)間:2025-10-27
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺(tái)控制靈活，多個(gè)樣品座，樣品室?guī)缀慰勺儯瑢挿秶牟僮鲏毫Γo湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)，操作容易。
更新時(shí)間:2025-10-27
oai 6000 fsa 全自動(dòng)上側(cè)或后側(cè)光刻機(jī),具有完全自動(dòng)化的亞微米分辨率的頂側(cè)或背側(cè)對(duì)齊，提供無(wú)與倫比的性價(jià)比。
更新時(shí)間:2025-10-27
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統(tǒng)· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
更新時(shí)間:2025-10-27
美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
更新時(shí)間:2025-10-27
美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
更新時(shí)間:2025-10-27
nanoarch p130是科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時(shí)間:2025-10-27
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時(shí)間:2025-10-27
30型uv光源是高效的，可用于各種應(yīng)用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產(chǎn)生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當(dāng)?shù)臒簦òǎ］敵龉β史秶鷱?00瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過濾器組件，使用戶能夠輕松定制輸出光譜。可選配遠(yuǎn)程排氣風(fēng)扇。
更新時(shí)間:2025-10-27
oai 200型光刻機(jī)是一種具有成本效益的高性能掩模對(duì)準(zhǔn)器，采用經(jīng)過行業(yè)驗(yàn)證的組件，使oai成為光刻設(shè)備行業(yè)的導(dǎo)者。 200型是臺(tái)式面罩對(duì)準(zhǔn)器，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點(diǎn)生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調(diào)平系統(tǒng)，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對(duì)準(zhǔn)和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)一微米分辨率和對(duì)準(zhǔn)精度。
更新時(shí)間:2025-10-27
2012sm型自動(dòng)邊緣曝光系統(tǒng)為使用標(biāo)準(zhǔn)陰影掩模技術(shù)的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的方法。 設(shè)計(jì)用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動(dòng)foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實(shí)現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時(shí)間:2025-10-27
2012sm型自動(dòng)邊緣曝光系統(tǒng)為使用標(biāo)準(zhǔn)陰影掩模技術(shù)的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的方法。 設(shè)計(jì)用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動(dòng)foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實(shí)現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時(shí)間:2025-10-27
兩種型號(hào)的2000型曝光系統(tǒng)包括uv光源，強(qiáng)度控制電源和機(jī)器人襯底處理子系統(tǒng)。 uv光源提供發(fā)散半角<2.0％的可調(diào)強(qiáng)度光束。電源從200w到2,000w。強(qiáng)度控制器傳感器直接連接到光源，用于精確的強(qiáng)度監(jiān)控。機(jī)器人襯底處理系統(tǒng)是微處理器控制的，并且可以被編程以適應(yīng)各種各樣的襯底尺寸。
更新時(shí)間:2025-10-27
oai 5000e型大面積掩光刻機(jī)是一種先進(jìn)的高性能，全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)器和曝光工具，可為大型平板應(yīng)用提供超精密，頂，亞微米對(duì)準(zhǔn)和分辨率。 其靈活的設(shè)計(jì)允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達(dá)300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計(jì)算機(jī)控制的led顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。
更新時(shí)間:2025-10-27
phabler 100 紫外光刻機(jī)是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術(shù)，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結(jié)果非常均勻，質(zhì)量很好。
更新時(shí)間:2025-10-27
raith 150 two可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的容忍度，即使在相對(duì)糟糕的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。
更新時(shí)間:2025-10-27
raith 150 two可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的容忍度，即使在相對(duì)糟糕的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。
更新時(shí)間:2025-10-27
德國(guó)raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機(jī),系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關(guān)鍵的指標(biāo)，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對(duì)外界環(huán)境的容忍度。
更新時(shí)間:2025-10-27
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