光學平臺產品及廠家
3噸打印小票電子地磅 3000kg雙層平臺秤?廣泛應用于倉庫、化工車間、貨場、藥廠、食品加工廠、水產集貿市場，工地等場所放貨物稱量, 可根據客戶要求訂制尺寸可根據需求定制。產品功能：1.秤臺由秤體和框
更新時間:2025-11-05
1.2*1.5米不銹鋼小地磅 10噸防水電子平臺秤?想買質量好的地磅就買上海漢衡的，為什么要選擇上海漢衡呢？因為我們無論是從工藝還是材質方面都優于其他廠家，凡是購買我司地磅的客戶，我們的技術員會免費安
更新時間:2025-11-05
食品廠3噸不銹鋼電子地磅 1*1米防水平臺秤?食品廠用不銹鋼地磅哪家好？為您推薦上海漢衡！我司不銹鋼地磅有單層、雙層、移動、帶斜坡多種類型可選，您可以根據自己的實際需求來選擇購買何種類型的不銹鋼地磅，
更新時間:2025-11-05
5噸帶斜坡電子地磅 1米乘1米超低平臺秤?產品簡介：地磅秤主要由秤體一件，傳感器四只，接線盒一只，通訊電纜五米，稱重儀表一只組成，這是小地磅的標準配置，當然還有選配件，比如說地磅引坡，儀表架，連接電腦
更新時間:2025-11-05
3噸帶打印平臺秤 3t帶rs232接口電子磅秤?技術參數：準 確 度：符合jjg539-97中三級要求 使用電源：ac187～242v；49～
更新時間:2025-11-05
gb8050led防爆燈30w-gb8050led防爆平臺燈50w適用于化工廠房、倉庫、鍋爐房、儲存間、罐區、鋼廠等車間或廠房作固定照明
更新時間:2025-11-04
目前主流的光學缺陷檢測技術主要依賴于獲取物體表面的二維信息。然而，在諸多實際應用場景中，例如民用電子產品對液晶屏內部缺陷鏡頭組內部缺陷的檢測，以及對藥物涂層厚度的測量等，都對現有技術提出了更高的要求，迫切需要具備三維成像乃至層析成像的能力。這意味著未來的檢測技術必須能夠穿透材料表層，深入探測其內部結構和分層信息，以實現更、更的缺陷識別與分析。
更新時間:2025-11-03
微光綜合測試儀是種精密的光學檢測設備。適用于各種視場和潛望高度的微光夜視儀，該儀器可以完成對各種微光夜視儀器的大部或全部光學性能的測試。
更新時間:2025-11-02
光具座是種通用性強，用途廣泛的光學測試儀器，它主要應用于照相物鏡系統、望遠系統及各類光學零件等光學幾何參數的測量及其成像質量的評定，還可以應用于對棱鏡的角度進行測量。儀器帶有多種附件，適用于光學零件及光學儀器生產過程的質量檢驗及科研教學中使用。
更新時間:2025-11-02
產品特點：1.臺面材料采用健康型天然大理石平臺代替原有的鋼結構平臺，其明顯優點是平面度好、質量大、穩定性好、耐腐蝕性強2.內置精密空氣彈簧隔振系統，具備優異的隔振性能，自動調節水平功能3.該產品適用于平面度要求高的實驗
更新時間:2025-11-02
內部蜂窩狀芯板采用的是不銹鋼、鋁板，鍍鋅板等防腐材料，內芯密度為250kg/m3；采用國內最新的粘接工藝，顛覆了傳統的焊接工藝，無焊接應力；質量輕，強度高，穩定性好。
更新時間:2025-11-02
光學平臺廣泛應用于光學，電子，精密機械制造，冶金，航天，航空，航海，精密化工和無損檢測等領域，以及其他機械行業的精密試驗儀器，設備振動隔離的關鍵裝置中。
更新時間:2025-11-02
本公司制造的精密光學平臺，組合精密橡膠阻尼隔震墊,和水平調節軸承，具有較好隔振效果。適合于現代光學、物理力學、激光電子、光通訊試驗及儀器搭載等領域應用。
更新時間:2025-11-02
光學透鏡采用磁吸式，可以吸附在鐵板上，中間圓盤可以通過后面的旋鈕360度旋轉，五線光源采用5個開關控制，線條可任意使用。尺寸：35*12*30cm
更新時間:2025-11-02
:led（light emitting diode），半導體發光二極管，是一種固態的半導體器件，它可以直接把電轉化為光，以其低功耗，高效率，高穩定型等特點在照明、光通信等領域逐步替代傳統光源。對led的各項參數的理解與測試方式的掌握是開發應用此類器件的基礎。采用新光電器件及現在工業廣泛應用的測試方法開發的此套教學實驗產品適用于光電專業本科生基礎光電實驗及高職院校學生實訓課程。
更新時間:2025-10-29
本實驗裝置是基于國家大學生創新實驗項目和競賽項目的基礎上改進完善提高后定型的。是結合了智能家居、智能樓宇的設計理念，融合光電技術、物聯網技術，嵌入式技術等等為一體的綜合性設計開發平臺，該裝置設計理念先進，科技含量高，綜合性強，屬于多學科交叉的實驗儀器，實驗設計平臺的各個部分，既有與光電、傳感器等的原理密切相關的基礎實驗，又有利用無線組網傳感、手機遠程
更新時間:2025-10-29
lite （for toxirae 3）自動標定平臺autorae 自動標定系統可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。 主要特點• 自動標定• 自動回讀測試• 自動充電̶
更新時間:2025-10-29
自動標定平臺品 說 明 autorae 自動標定系統可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。 主要特點• 自動標定• 自動回讀測試• 自動充電• 簡單的按鍵操作• 無需連接計算機• 標定和測試結果數據直接打印
更新時間:2025-10-29
picosun™ r-200標準型原子層沉積機，picosun™ r系列設備提供高質量ald薄膜的沉積技術，并在各種各樣的襯底上都表現極佳的均勻性，包括最具挑戰性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。 我們為液體、氣體和固體化學物提供的更高級的，易更換的前驅源系統，能夠在晶圓、3d樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度最小的薄膜層。
更新時間:2025-10-27
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機,是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實現快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產的理想選擇。 它通過優化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現高質量的工藝。
更新時間:2025-10-27
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機,是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實現快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產的理想選擇。 它通過優化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現高質量的工藝。
更新時間:2025-10-27
plasmapro 80 icpcvd 牛津icp等離子沉積機，是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現快速晶圓裝卸，是科學研究、原型設計和小批量生產的理想選擇。 它通過優化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現高性能工藝。
更新時間:2025-10-27
牛津oxford system 100 等離子刻蝕與沉積設備,該設備是一個靈活和功能強大的等離子體刻蝕和淀積工藝設備,具有工藝靈活性，適用于化合物半導體，光電子學，光子學，微機電系統和微流體技術.
更新時間:2025-10-27
plasmapro 80 icp 英國牛津oxford 等離子體刻蝕機,是一種結構緊湊、小型且使用方便的直開式系統，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質量。直開式設計允許快速的進行晶圓裝卸，是科學研究、原型設計和少量生產的理想選擇。 該設備通過優化了的電冷卻技術和出色的襯底溫度控制來實現高度穩定的工藝結果。
更新時間:2025-10-27
牛津opal開放式樣品載入ald設備，緊湊型開放式樣品載入原子層沉積（ald）系統，opal提供了業的熱ald設備，可以簡單明了的升使用等離子體，使得在同一緊湊設備中集成了等離子體和熱ald。
更新時間:2025-10-27
plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蝕系統，旨在提供深硅蝕刻（dsie）域的全方位的靈活性以滿足微電子機械系統（mems）、 先進封裝以及納米技術市場的各種工藝要求。考慮到研究和生產的市場發展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。
更新時間:2025-10-27
plasmapro 100 ale 牛津原子層刻蝕機，市場應用廣，包括但不限于： mems和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發，通過打造質量滿足生產需求。
更新時間:2025-10-27
英國hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統，是門設計用于手套箱集成使用的鍍膜設備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應用要求。該系統配了一個特殊結構的真空腔室，可直接與市場上大多數手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動開關，嵌入手套箱內，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關，能在不影響手套箱內氣氛的情況下輕松維護腔室內工藝組件。
更新時間:2025-10-27
英國hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學家的多功能鍍膜設備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設備，設計用于滿足科研工作者和電子顯微學家的需求。auto306可配備各種真空系統、真空腔室和標準化工藝附件，提供一系列實驗技術以滿足現代化實驗室的需要。
更新時間:2025-10-27
tf500/tf600 適合先進研發和試生產的全功能系統，系統配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個型號的系統都可以安裝多個鍍膜源，也都支持離子束處理選項。有一系列預進樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。
更新時間:2025-10-27
ion 100wb-40q 德國 pva tepla 等離子去膠機，最新推出的具有高性價比的真空等離子去膠設備，配備了一個圓筒石英腔，特別適用于半導體、led、mems等領域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應用的批次處理。
更新時間:2025-10-27
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場發射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺控制靈活，多個樣品座，樣品室幾何可變，寬范圍的操作壓力，緊湊、現代的桌上型設計，操作容易。
更新時間:2025-10-27
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統，通過全方位的設計優化，實現更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節能。
更新時間:2025-10-27
nanoarch p130是科研3d打印系統，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
更新時間:2025-10-27
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時間:2025-10-27
30型uv光源是高效的，可用于各種應用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當的燈（包括）。輸出功率范圍從200瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過濾器組件，使用戶能夠輕松定制輸出光譜。可選配遠程排氣風扇。
更新時間:2025-10-27
oai 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器，采用經過行業驗證的組件，使oai成為光刻設備行業的導者。 200型是臺式面罩對準器，需要小的潔凈室空間。它為研發，或有限規模，試點生產提供了經濟的替代方案。利用創新的空氣軸承/真空吸盤調平系統，襯底快速平穩地平整，用于平行光掩模對準和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統能夠實現一微米分辨率和對準精度。
更新時間:2025-10-27
2012sm型自動邊緣曝光系統為使用標準陰影掩模技術的邊緣珠去除提供了一種經濟高效的方法。 設計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現，從而增加該生產工具的通用性和高產量。
更新時間:2025-10-27
2012sm型自動邊緣曝光系統為使用標準陰影掩模技術的邊緣珠去除提供了一種經濟高效的方法。 設計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現，從而增加該生產工具的通用性和高產量。
更新時間:2025-10-27
兩種型號的2000型曝光系統包括uv光源，強度控制電源和機器人襯底處理子系統。 uv光源提供發散半角<2.0％的可調強度光束。電源從200w到2,000w。強度控制器傳感器直接連接到光源，用于精確的強度監控。機器人襯底處理系統是微處理器控制的，并且可以被編程以適應各種各樣的襯底尺寸。
更新時間:2025-10-27
oai 5000e型大面積掩光刻機是一種先進的高性能，全自動掩模對準器和曝光工具，可為大型平板應用提供超精密，頂，亞微米對準和分辨率。 其靈活的設計允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達300mm或20“×20”。 曝光系統兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計算機控制的led顯微鏡照明，在不太理想的觀察環境中觀察。
更新時間:2025-10-27
phabler 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質量很好。
更新時間:2025-10-27
raith 150 two可實現亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環境屏蔽罩保證了系統的熱穩定性，提高設備對實驗室環境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環境下，也能保證系統的正常穩定運行。
更新時間:2025-10-27
raith 150 two可實現亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環境屏蔽罩保證了系統的熱穩定性，提高設備對實驗室環境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環境下，也能保證系統的正常穩定運行。
更新時間:2025-10-27
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