等離子清洗器產品及廠家
等離子清洗機去膠機器kt-s2dqx在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面．以達到清洗目的．
更新時間:2025-11-02
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-10-28
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-10-28
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的
更新時間:2025-10-28
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的
更新時間:2025-10-28
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-10-28
等離子清洗機（plasma cleaner）也叫等離子清潔機、等離子表面處理儀，是一種低能耗、清潔、環(huán)保、處理均勻的的高科技技術，它利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。
更新時間:2025-10-28
等離子清洗能實現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產。
更新時間:2025-10-28
等離子清洗機（plasma cleaning）能實現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產。
更新時間:2025-10-28
等離子清洗機（plasma cleaning）能實現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產。
更新時間:2025-10-28
專為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機，可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料，改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。
更新時間:2025-10-28
vgb系列手套箱專用等離子清洗設備，優(yōu)化的腔體結構及合理的結構設計更適合手套箱內使用。安裝簡單方便，性能穩(wěn)定，實用性強，容易維護。
更新時間:2025-10-28
cpc系列等離子清洗機是為中試客戶和工業(yè)級客戶而設計的等離子體表面處理設備。配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產場景清洗，活化、刻蝕等應用。設備可在嚴苛環(huán)境下穩(wěn)定運行，產品性能穩(wěn)定，樣品處理重復性、一致性好。
更新時間:2025-10-28
cif透射電鏡（tem）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時間:2025-10-28
tem透射樣品桿長期暴露于大氣中，空氣中水汽及污染物會附著于樣品桿表面，會導致電鏡抽真空時間延長，污染電鏡真空腔室、探測器等，影響電鏡的使用壽命
更新時間:2025-10-28
cap-auto系列全自動在線式大氣等離子清洗機采用單軸模組配合旋噴等離子組件，噴洗高度可調，運動軌跡可根據(jù)要求設定，上下料方式采用鏈條或皮帶傳動連接前后工序，實現(xiàn)對產線產品的等離子清洗處理。
更新時間:2025-10-28
cpc-auto在線片式真空等離子清洗機具有成本較低、容易使用，維護乃保養(yǎng)費用低，環(huán)保等優(yōu)點。適用于芯片粘結工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理，與傳統(tǒng)獨立式的等離子清洗機相比，在線片式真空等離子清洗機具有自動化程度高、清洗效率高、設備潔凈度高、適用范圍廣等優(yōu)點，適用于大規(guī)模全自動化生產。
更新時間:2025-10-28
等離子去膠機，采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進行等離子體去膠。特別適合于大學，科研院所和微電子、半導體企業(yè)實驗室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、mems制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預處理等。
更新時間:2025-10-28
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時間:2025-10-28
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術可應用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時間:2025-10-28
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰糜诙喾N領域。
更新時間:2025-10-28
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進行整合，可以滿足生產企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進行定制。
更新時間:2025-10-28
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-10-28
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-10-28
hty-30a型真空泵是設計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負壓抽濾方式進行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設備使
更新時間:2025-10-28
德國 pva tepla等離子清洗系統(tǒng)80 plus hs, giga690,10n optimus100,80 plus，有別于傳統(tǒng)的射頻等離子(物理)清洗方式，微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個部位，實現(xiàn)清洗過程的自由基不會被障礙物所阻擋，并且不會改變表面的粗糙度。
更新時間:2025-10-27
syd-265-3型自動毛細管粘度計清洗器是專為清洗石油產品試驗用毛細管粘度計而設計制造的自動清洗器。本儀器可用來清洗凡具有三端口的品氏、烏氏、芬氏、逆流等玻璃毛細管粘度計。尤其適合于清洗檢測高粘度重油使用的毛細管粘度計，改變了靠傳統(tǒng)手工清洗、費時費力且不易洗凈的現(xiàn)狀。 本儀器采用單片機控制技術，程序控制，自動清洗，使用方便，操作簡單，消耗溶劑油少，清洗效率高？蓮V泛應用于石油產品生產企業(yè)、使用單位、各相關院校、科研院所實驗室等使用各類毛細管粘度計的場合。
更新時間:2025-10-27
syd-0620-3型自動瀝青毛細管粘度計清洗器，是專為瀝青動力粘度試驗器的毛細管粘度計而設計制造的自動清洗器。本儀器也可用來清洗凡具有兩端口的逆流等玻璃毛細管粘度計，尤其適合于清洗檢測高粘度重油使用的毛細管粘度計，改變了靠傳統(tǒng)手工清洗、費時費力且不易洗凈的現(xiàn)狀。
更新時間:2025-10-27
等離子樣品清洗設備evactron e50可以安裝在電鏡交換倉或樣品室內，利用等離子體進行清洗，也可以用紫外線進行清洗，無需切換到低真空模式即可使用，射頻功率高達50w，清洗效率高。
更新時間:2025-10-27
shcs06運動粘度毛細管清洗器可用來清洗毛細管粘度計，以及量杯、量筒、燒瓶、蒸餾瓶等各種玻璃器皿。毛細管粘度計清洗器使用方便，操作簡單，消耗溶劑油少，清洗效率高。可廣泛應用于石油產品生產企業(yè)、使用單位、各相關院校、科研院所實驗室等使用各類毛細管粘度計的場合。本儀器還可用作各實驗室其它試驗的輔助吸濾裝置，如機械雜質、不溶物
更新時間:2025-10-27
npc-3500（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-10-27
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-10-27
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-10-27
npc-4000（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-10-27
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產品概述：該系統(tǒng)為計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-10-27
npc-3000等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用
更新時間:2025-10-27
nie-3000 (c) 離子束清洗系統(tǒng)產品概述：該系統(tǒng)為手動放片取片，但通過計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-10-27
nie-3500 (ac)全自動離子束清洗系統(tǒng)產品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-10-27
npe-4000（m） pecvd等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時間:2025-10-27
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-10-27
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-10-27
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-10-27
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-10-27
npe-4000（a）全自動pecvd等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時間:2025-10-27
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