iHM-4000 耐博 全自動熱鑲嵌機 全自動金相試樣鑲嵌機 鑲樣機
1.自動功能：
1)被鑲嵌樣品及鑲嵌料放入后，自動加蓋上模
2)自動加壓
3)自動加熱和冷卻
4)上模自動移去，樣品自動頂出
2.內置儲存99組鑲嵌工藝（保存鑲嵌材料等參數），總有一種工藝滿足特定要求。
3.高效的加熱/冷卻系統，充分傳遞熱量和冷卻，實現快速循環。
4.為了避免樣品被壓變形或壓碎，內置預壓功能，預壓壓力、溫度及時間可設定。
5.電動液壓系統加載，壓力大并穩定可靠。
6.USB接口，鑲嵌工藝參數通過U盤導入導出。
7.含制冷功能的自動循環冷卻裝置（選件）
8.兩個或多個鑲嵌工位組合（選件）
9.鑲嵌料自動、定量添加組件（選件）
自動定量添加鑲嵌材料
添加量可設置，并自動控制
XQ-2B金相試樣鑲嵌機XQ-2B
首頁->產品->金相設備->金相鑲嵌機
XQ-2B機械式鑲嵌機，旋轉機體外手輪，通過一對錐齒輪帶動機體內絲桿使壓制試樣的下模在鋼模套內上下移動，熱固性塑料連同鑲嵌的試樣在加熱條件下成形。試樣制備過程中的成形壓力由固定在機體內的彈簧自動補償，試樣壓制的壓力可由信號燈給以指示。 本機配有智能型數字顯示溫控器，能自動溫控，設定溫度與實際溫度均有顯示，溫度傳感器采用熱電偶。本機具有高靈敏度、高精度，有溫度顯示，易觀察又易操作等優點。每件試樣鑲嵌（用電玉粉）約12分鐘。 主要參數: 1、試樣壓制規格 ￠22 ￠30 ￠45 2、加熱器規格 600W 3、溫度調節范圍 0-300oC 4、控制電源 220V 5、外形尺寸 340×280×400mm 6、重量 32kg 
VacFill-9VacFill-9金相試樣真空鑲嵌機 多工位真空冷鑲嵌機 鑲嵌設備儀器
VacFill-9多工位真空冷鑲嵌機VacFill-9為金相試樣真空冷鑲嵌機，提供卓越的浸漬性能，操作快速高效。特別適合用于多孔材料，例如裂紋失效分析試樣，多孔鑄件及復合物，電子元件，礦石，陶瓷和噴涂等試樣。
程序化
程序設定好真空度、真空保壓時長、循環真空次數，即可自動完成多次抽真空循環，無需人員值守。抽真空的過程，可對真空度、時長和循環次數進行調整，達到理想值。多次抽真空循環無需人為干預，能更好地控制抽真空過程，并能得到一致可再現的結果。少了清潔工作。
可靠、簡便、干凈
VacFill-9低真空壓力值可達-90Kpa，整機采用優良的密封設計，無需涂抹油脂，保證真空過程中不漏氣，使得快速達到所設定的真空要求。VacFill-9多工位真空冷鑲嵌機，適合批量鑲樣的需求，澆注準確簡便。
寬敞的真空室配備有高可見度的透明封蓋，能清晰地觀察整個真空浸漬過程。 真空筒下部的手動轉輪可以輕松地將模具轉動到輸液管滴液嘴下方，實現輕松定位樣品。 用于控制環氧樹脂料流量的閥門容易操作。 一次性輸液管及滴液嘴保證樹脂能順利地填充流入到鑲樣模具，在操作時真空室里面均不會有樹脂料溢出，快速高效。
功能特點：1. 配備個大容積真空室和個容易操作的控制面板。浸漬材料通過次性管道輸送，快速高效的分布至各個鑲樣模中，沒有潑濺污染。2. 大容積真空室(D215X120mm),足夠容納多個或大型試樣的空間。3. 實用的鑲樣模架上可放置多達9個30mm直徑樣件鑲樣模具。當放置40mm直徑樣件鑲樣模具，可以同時安裝6個。4. 實用的鑲樣模架在真空室內可以自動緩慢旋轉。方便澆鑄浸漬。5. 易于操作,輕巧入口管實現鑲嵌樣模的無故障裝填。易讀取的真空表;輕觸鍵,方便客戶操作。6. 透過透明蓋清晰觀察浸漬過程7. 次性輸液管，減少了清潔工作 主要技術參數：1. 輸入電壓：220V 50Hz2. 壓縮空氣：0.5-0.6Mpa3. 限真空：-0.09MPa 4. 外徑尺寸：高度：208mm/8”、寬度：395mm/15.5”深度：370mm/14.5”、重量：9.5kg/21lbs5. 真空室尺寸：內徑：215mm/8.5”內部高度：130mm/5”
XQ-1金相試樣鑲嵌機
XQ-1型金相試樣鑲嵌機
SXQ-2B金相試樣鑲嵌機
本機系機械式鑲嵌機，旋轉機體外手輪，通過一對傘齒輪帶動機體內絲桿使壓制試樣的下模在剛模套內上下移動，熱因性塑料連同鑲嵌的試樣的試樣在加熱的條件下成形。試樣制備過程中的成形壓力由固定在集體內的彈簧自動補償、試樣壓制的壓力可由信號燈給以指示。
本鑲嵌機配置數顯溫控器，從而實現了實時溫度顯示和溫度自主設定，配置定時器，又從而實現了制樣的半自動化，大大提高了工作效率。每次鑲嵌制樣時間8-10分鐘，可獲得光滑如鏡的理想試樣。
技術參數：
1.試樣壓制規格 | Ø22×15mm;Ø30×15mm;Ø45×18mm |
2.加熱器規格 | 650W 220V |
3.溫度調節范圍 | 100-180℃ |
4.控制電源 | 電壓波動不大于±15%,220V,50Hz |
5.外型尺寸 | 340X270X400mm |
6.凈重 | 33Kg |
XQ-2B型金相試樣鑲嵌機
廠家直銷XQ-2B型金相試樣鑲嵌機、驚爆低價鑲嵌機
，價格低廉，并為廣大客戶產品質量，售后服務完善、歡迎來電訂購
XQ-2B型金相試樣鑲嵌機（以下簡稱鑲嵌機）適用于對不是整形、不易于拿的微小金相試樣進行熱固性塑料壓制。成形后可方便地進行試樣磨拋操、也有利于在金相顯微鏡下進行顯微組織測定。XQ-2B型金相試樣鑲嵌機XQ-2B型金相試樣鑲嵌機在下列條件下能地工作：1、海拔高度不超過1000米；2、周圍介質溫度不超過+40攝氏度，不底于-10攝氏度；3、空氣在相對濕度不大于85%（在20攝氏度時）；4、沒有明顯的振動和顯顛簸；5、周圍沒有導電壓塵埃、爆炸性氣體、及能嚴重破壞金屬和絕緣的腐蝕性氣體。
主要技術指標◆試樣壓制直徑：φ22 φ30 φ45◆加熱器規格：220V 650W◆外形尺寸：400×290×400◆機器重量：33KG XQ-2B型金相試樣鑲嵌機系機械式鑲嵌機，旋轉機體外手輪，通過一對傘齒輪帶動機體內絲桿使壓制試樣的下模在剛模套內上下移動，熱因性塑料連同鑲嵌的試樣的試樣在加熱的條件下成形。金相試樣鑲嵌機試樣制備過程中的成形壓力由固定在集體內的彈簧自動補償、試樣壓制的壓力可由信號燈給以指示。 金相試樣鑲嵌機配置數顯溫控器，從而實現了實時溫度顯示和溫度自主設定，配置定時器，又從而實現了制樣的半自動化，金相試樣鑲嵌機大大提高了工作效率。每次鑲嵌制樣時間8-10分鐘，金相試樣鑲嵌機可獲得光滑如鏡的理想試樣。
金相試樣鑲嵌機
BXQ-2金相試樣鑲嵌機
用途 ApplicationsBXQ-2 型金相試樣鑲嵌機（以下簡稱鑲嵌機）適用于對不是整形、不易手拿的微小金相試樣進行熱固性塑料壓制。成形后可方便地進行試樣磨拋操作，也有利于在金相顯微鏡下進行顯微組織測定。鑲嵌機在下列條件下能地工作。1. 海拔高度不超過1000米；2. 周圍介質溫度不高于+40oC,及不低于-10oC；3. 空氣在相對濕度不大于85%（在20oC時）；4. 周圍沒有導電塵埃、爆炸性氣體、及能嚴重破壞金屬和絕緣的腐蝕性氣體；5. 沒有明顯的振動和顛簸技術參數 Specifications1、試樣壓制規格 1、Specimen pressing size ￠22 ￠30 ￠40 ￠452、加熱器規格 2、Heater capacity 600W3、溫度調節范圍 3、Adjustable temperature range 0-300oC4、控制電源 4、PowerO 220V5、電動機功率 5、Motor 220V 160W6、外形尺寸 6、Overall dimensions 280×400mm 7、重量 7、Net weight 29kg結構特征概述 本機系機械式鑲嵌機，用電動機，連接絲桿帶動機體內絲桿使壓制試樣的下模在鋼模套內上下移動，熱固性塑料連同鑲嵌的試樣在加熱的條件下成形。試樣制備過程中的成形壓力由固定在機體內的彈簧自動補償，試樣壓制的壓力可由信號燈給以指示。本機配有智能型數字顯示溫控器，能自動控溫，設定溫度與實測溫度均有顯示，溫度傳感器采用熱電偶。本機具有高靈敏度、高精度，有溫度顯示，易觀察又易操作等優點。每件試樣鑲嵌（用電玉粉）約12分鐘。
GXQ 金相試樣鑲嵌機
  GXQ-1型金相試樣鑲嵌機 GXQ-2型金相試樣鑲嵌機(半自動)● 實用的液壓驅動熱鑲嵌機。● 工藝控制：溫度、壓力、時間數字顯示。● 模具有4種直徑：25mm，30mm，40mm，50mm（1"～2")可供選擇， 更換便捷。 ● 模子中有附加圓形薄模芯，可使鑲樣能力加倍。● 操作方式：溫度、時間可設定，控制。● 最大壓鑄力：50KN；溫度：0～300℃；功率：1600W；水冷卻。 |
DGL-2I真空金相試樣鑲嵌機
真空金相試樣鑲嵌機參數 【詳情登陸 http://www.sgaaa.com金相顯微鏡】
觀察微生物在自然條件下更大的容器。這就是倒置顯微鏡允許并通過這樣做，它擴展了利用光學顯微鏡。因為它的配置，你可以把整個文化或大樣本在一個比較大的容器，如培養皿，看看整個容器的內容在更自然的（雖然仍然人工）和較少強調條件。這樣一個樣本可能維持生命在更長的時期。容器的蓋大大減慢蒸發而同時允許一些氣體交換。大水量較少受到快速溫度變化很明顯，如果存儲在一個房間，水將獲得房間的溫度。一個樣品池“人渣”我看了幾周仍維持生命雖然性格的生活生了很大變化，時間從當我次收集的樣本。在這一時期，隨著環境的改變在培養皿中，生命，它可以支持改變，但仍有很大不同的生活。還有，記住，標準高功率目標通常有一個很短的工作距離和必須非常接近的主題焦點。這就是為什么他們往往是受保護的回縮的消防水槍以免損壞如果它偶然接觸到蓋支路及幻燈片。因為更大的厚度的容器底部，你是透過（相對于蓋滑），一個標準的高功率的目的可能無法得到足夠接近的主題集中。因此，高功率的目標在一個倒置顯微鏡必須糾正一個更長的工作距離。這些目標至少奧林巴斯“鉆”（長工作距離）和“ulwd”（超長工作距離）目標。再次，這增加了成本。此外，即使所有這些更正，他們不能彌補相對缺乏清晰度光學均勻性和尋找通過蓋滑，因此，圖像質量并不如期待通過傳統的顯微鏡具有目標（注意：一次性塑料培養皿通常更適合比大多數玻璃培養皿，因為他們是更薄，更均勻，因此光學優于標準玻璃盤）。然而，另一個缺點是，最大放大倍率可在倒置顯微鏡是有限的。通常2是動力目標（雖然奧林巴斯有60倍目的可在其更昂貴的模型）。油浸100目標往往是不可用（雖然有其九奧林巴斯系列無窮糾正倒置顯微鏡）。我不知道這是否是因為難以維持一個油浸滴顛倒或難以糾正這種高功率的目的，長工作距離。
http://www.xianweijing.org
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